Umístění masky v litografii

Litografické procesy vyžadují vysoké rozlišení a dlouhodobé měření pohybu strojů, aby bylo dosaženo maximální přesnosti. Vysoké rozlišení umožňuje nanometricky přesné umístění masky pomocí kapacitních snímačů Micro-Epsilon. Jejich vhodná konstrukce umožňuje použití snímačů a kabelů v ultra-velkém vakuu.

Odporúčaná technológia snímačov

capaNCDT 6200

MICRO-EPSILON Czech Republic
Na Libuši 891
39165 Bechyně, Czech Republic
juraj.devecka@micro-epsilon.cz
+421 911 298 922
+420 381 211 060